發布日期：2022-11-05 點擊率：45
除了真空室需要高溫烘烤外，常用的超高真空泵，例如渦輪分子泵、濺射離子泵、鈦升華泵、低溫泵等在允許的溫度下也應對泵本身進行烘烤。超高真空計烘烤后可使測量更精確，否則規管內材料的出氣會對測量產生大的誤差。在表面研究及某些生產工藝中，要求對試件(工件)及支架進行徹底烘烤用以獲得“清潔新鮮”基體表面。
烘烤溫度通常根據被烘烤材料所允許的最高溫度、系統的極限壓力等因素確定。電子管、燈泡及各類靜態系統在封離之前，必須進行徹底烘烤，烘烤溫度一般不低于管子正常工作時的最高溫度。
動態金屬超高系統烘烤溫度范圍為150~450℃(最高烘烤溫度約800℃)，可根據系統用材允許的最高烘烤溫度選用。采用150℃較低的烘烤溫度時，需要適當延長烘烤時間來彌補烘烤溫度的不足。烘烤應當在10-3~10-4Pa壓力下進行，烘烤開始出氣的主要成分是水，最后的氣體成分是氫，實際情況可能要復雜得多。
除材料的出氣外，大氣的滲漏是不可忽略的重要因素。反復烘烤后金屬密封墊圈表面的污染物以及溫度交變可能會加重金屬密封的凸凹不平面，會出現許多細小的泄漏點。如果容器連接有薄壁波紋管，在高溫烘烤期間氮氣的滲漏，也會影響超高真空系統的殘氣成分。
(慧樸科技，huiputech)
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