TSMC將在日前召開的TSMC技術研討會上宣布,推出一種面向可制造性設計(DFM)“生態系統”的65納米設計,以及將工藝模型信息帶給無生產廠半導體制造商的通用數據格式。此舉有望消除無廠設計公司與IDM設計公司之間的差距,IDM設計公司可從它們自有的生產廠獲取相關工藝信息。

TSMC的65納米兼容設計支持生態系統的核心是DFM統一格式(DUF),據稱能提供光刻工藝檢查、關鍵區域分析及化學機械拋光(CMP)分析需要的所有信息,面向90納米和65納米工藝的該設計將于7月推出。

為了使用該格式,EDA工具必須經受嚴格的資格審查,包括精確度測試、可用性和運行時間。已擁有合格工具的供應商包括Anchor Semiconductor、Cadence Design Systems、Clear Shape Technologies、Magma Design Automation、Mentor Graphics、Ponte Solutions、Predictions Software及Synopsys。

TSMC設計服務營銷高級總監Ed Wan表示:“這是一個巨大的進展,我們不僅僅對付工具,而是應對整個生態系統,從而開創了將DFM融入我們設計聯盟合作伙伴項目每一個環節當中的局面。”

他表示,此舉將服務于TSMC與EDA供應商、庫和IP提供商以及獨立設計中心達成的聯盟項目。