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    電化學(xué)拋光是以被拋光工件為陽極，不溶性金屬為陰極，兩電極同時(shí)浸入電化學(xué)拋光槽中，通以直流電而產(chǎn)生有選擇性的陽極溶解，陽極表面光亮度增大，這種過程與電鍍過程正好相反。

    電化學(xué)拋光機(jī)理——黏性薄膜理論如下，拋光主要是陽極電極過程和表面磷酸鹽膜共同作用的結(jié)果，從陽極溶解下來的金屬離子與拋光液中的磷酸形成溶解度小、黏性大、擴(kuò)散速率小的磷酸鹽，并慢慢地積累在陽極附近，粘接在陽極表面，形成了黏滯性較大的電解液層。密度大、導(dǎo)電能力差的黏膜在微觀表面上分布不均勻，從而影響了電流密度在陽極上的分布。很明顯，黏膜在微觀凸起處比凹洼處的厚度小，使凸起處的電流密度較高而溶解速率較快。隨著黏膜的流動(dòng)，凸凹位置的不斷變換，粗糙表面逐漸整平。不銹鋼表面因此被拋光達(dá)到高度光潔和光澤的外觀。

    由此可見，溶液濃度和黏度是個(gè)重要因素，特別是溶液的黏度，往往表現(xiàn)在新配的拋光液雖然組分濃度達(dá)到了要求，但由于黏度尚未達(dá)到要求而拋不光，只有在經(jīng)過一段時(shí)間的電解后才開始拋光良好。特別是溶液與零件的界面濃度和黏度，在拋光中起著重要作用。這就是為什么要求零件在進(jìn)入拋光液前表面水膜要均勻，否則零件表面帶水膜的不均勻性，破壞了黏膜的正常生成，發(fā)生局部過腐蝕現(xiàn)象。水洗后的零件最好甩干后迅速下槽，這樣通電拋光后，表面過腐蝕現(xiàn)象即可避免。

    電化學(xué)拋光還不能完全取代機(jī)械拋光。電化學(xué)拋光只是對(duì)金屬表面上起微觀整平作用。宏觀的整平要靠機(jī)械拋光。電化學(xué)拋光對(duì)材料化學(xué)成分的不均勻性和顯微偏析特別敏感，使金屬基體和非金屬夾雜物之間常被劇烈浸蝕，有時(shí)有不良的冶金狀態(tài)，金屬晶粒尺寸結(jié)構(gòu)的不均勻性、軋制痕跡、鹽類或氧化物的污染、酸洗過度以及淬火過度等均會(huì)對(duì)電化學(xué)拋光產(chǎn)生不良影響。這些缺陷常常要靠先期的機(jī)械拋光來彌補(bǔ)。

    電化學(xué)拋光與手工機(jī)械拋光相比，能發(fā)揮下列優(yōu)點(diǎn)：

    1 產(chǎn)品內(nèi)外色澤一致，清潔光亮，光澤持久，外觀輪廓清晰；

    2 螺紋中的毛刺在電解過程中溶解脫落，螺紋間配合松滑，防止螺紋間咬合時(shí)的咬死現(xiàn)象；

    3 拋光面抗腐蝕性能增強(qiáng)；

    4 與機(jī)械拋光相比，生產(chǎn)效率高，生產(chǎn)成本低。

(慧樸科技，huiputech)