當(dāng)前位置: 首頁(yè) > 工業(yè)電子產(chǎn)品 > 半導(dǎo)體產(chǎn)品 > 存儲(chǔ)器
發(fā)布日期:2022-10-09 點(diǎn)擊率:46
備受矚目的三星48層V-NAND 3D快閃記憶體已經(jīng)出現(xiàn)在市場(chǎng)上了,TechInsights的拆解團(tuán)隊(duì)總算等到了大好機(jī)會(huì)先睹為快。
三星(Samsung)早在2015年8月就發(fā)布其256Gb的3位元多級(jí)單元(MLC) 3D V-NAND快閃記憶體K9AFGY8S0M,并強(qiáng)調(diào)將用于各種固態(tài)硬碟(SSD),也預(yù)計(jì)會(huì)在2016年初正式上市。這些承諾如今真的實(shí)現(xiàn)了,我們得以在其2TB容量的T3系列mSATA可攜式SSD中發(fā)現(xiàn)其蹤影(如圖1)。
圖1:三星T3 2TB SSD
根據(jù)TechInsights的拆解,我們?cè)谶@個(gè)SSD上發(fā)現(xiàn)了內(nèi)含4個(gè)0.5TB容量K9DUB8S7M封裝的雙面電路板(如圖2)。每一封裝中包含的就是我們正想探索的16個(gè)48L V-NAND晶粒。
圖2:三星T3系列2TB SSD正面和背面電路板
圖3顯示這16顆晶粒相互堆疊以及采用傳統(tǒng)線鍵合技術(shù)連接的封裝橫截面。這些晶片的厚度僅40um,著實(shí)令人眼睛為之一亮,這或許是我們所見(jiàn)過(guò)的封裝中最薄的晶片了。相形之下,我們?cè)?014年拆解三星32L N-NAND中的晶粒約為110um,封裝約堆疊4個(gè)晶片的高度。
我們還看過(guò)其它較薄的記憶體晶片,包括海力士(Hynix)用于超微(AMD) R9 Fury X繪圖卡的HBM1記憶體,厚度約為50um,以及在三星以矽穿孔(TSV)互連4個(gè)堆疊晶片的DDR4,其中有些DRAM晶粒的厚度約為55um。
因此,40um真的是超?。《铱赡鼙平?00mm直徑晶圓在無(wú)需使用承載晶圓(carrier wafer)所能實(shí)現(xiàn)的最薄極限。這實(shí)在令人印象深刻。
圖3:16個(gè)相互堆疊的三星48L V-NAND
圖4顯示其中的一個(gè)256Gb晶粒,壓縮了2個(gè)5.9mm x 5.9mm的較大NAND快閃記憶體組(bank)。我們可以將整個(gè)晶片區(qū)域劃分為大約2,600Mb/mm2的記憶體大小,計(jì)算出記憶體密度總量。相形之下,三星16nm節(jié)點(diǎn)的平面NAND快閃記憶體測(cè)量約為740MB/mm2。所以,盡管V-NAND采用較大的制程節(jié)點(diǎn)(~21nm vs. 16nm),其記憶體密度幾乎是16nm平面NAND快閃記憶體的3.5倍(見(jiàn)表1)。
圖4:三星256GB的V-NAND——K9AFGD8U0M
表1:平面與V-NAND的密度比較
下一篇: PLC、DCS、FCS三大控
上一篇: 索爾維全系列Solef?PV