發布日期：2022-04-28 點擊率：64
顯著改善鐵含量的測量并增強與實驗室分析的一致性
新型能量色散電離室，用于同時測量鐵和鋅的輻射
優化的幾何形狀和增加的測量通道數量，以降低對表面紋理和拓撲的敏感度
測量頭內部測量信號的數字化，以在工業環境中實現抗干擾性
使用XRF和康普頓散射，涂層厚度可達500 g/m2
新設計的電離室，效率更高
優化的測量幾何形狀，對距離變化的靈敏度小
新的RS40i-GA測量頭及其優化的測量算法，在鐵含量測量的準確性和可靠性方面取得了另一項突破。新型測量頭的中心部分是能量分散電離室，可同時測量鐵和鋅的熒光輻射。確定輻射分量的信號以準確測量測量區域。創新的電離室和增加的測量通道數量使得探測器布置具有嚴格的對稱性和冗余性。這使得對表面紋理和拓撲的敏感性降低。模塊化，易于維護的設計簡化了儀表頭的維護，減少了停機時間和成本。
使用XRF方法測量鋅涂層將有用的測量范圍限制在350g/m2。RS40i-XT將鋅涂層的有用測量范圍提高到500g/m2甚至更高。這通過將涂層中的彈性和非彈性散射包括在測量效果中而成為可能。彈性和非彈性散射X射線的能量由初級X射線束和測量幾何形狀確定。RS40i-XT，測量范圍為10至500g/m2。
